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TPR-HP 고압 광화학 반응 장치, 광화학 반응기 설계

TPR-HP 고압 광화학 반응 장치, 광화학 반응기 설계
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제품 정보

TPR-HP 고압 광화학 반응 장치, 광화학 반응기 설계

주요 구성 요소 : 스테인레스 스틸 반응 용기, PTFE 세트, 압력 석영 유리, 필터 등

2.Customization : -120 ℃ ~ 300 ℃ 고온 및 저온 순환 장치, 과압 해제 가스 보호 장치, Taylor 표준 체.

3.이 유형의 고압 광 화학 반응기 용기는 TOP-X 시리즈 광원과 함께 사용해야합니다.

TPR-HP 고압 광 화학 반응기 .jpg짧은 아크 크세논 빛 source.jpg

TPR-HP 고압 광 화학 반응기 기술 파라미터 :

모델

TPR-HP150

TPR-HP300

TPR-HP500

TPR-HP1000

광원 유형

크세논 / 자외선 램프

광원 전원

500W

500W

1000W

1500W

광원 수명

1000H

1000H

1000H

1000H

방사 특성

점원

점원

점원

점원

조사 직경

80MM

80MM

80MM

100MM

냉각 시스템

3 강한 방열기

가벼운 압력 창

있다

자기 교반 장치

있다

리프팅 플랫폼

있다

반응 용기의 주요 재료

스테인레스 스틸 316L / ( 순수 티타늄 / 하 스텔로이 합금 소재 ) 옵션

단일 부식 PTFE 내부 용량

150ML

300ML

500ML

1000ML

자켓 유형 부식 방지 PTFE 내부 용량 (옵션)

150ML

300ML

500ML

1000ML

압력 설계 (옵션)

2KG / 5KG / 10KG / 20KG

high pressure photochemical reactor 5 .jpg

high pressure photochemical reactor 1.jpg

high pressure photochemical reactor 3 .jpg

high pressure photochemical reactor 4 .jpg

ISO CE 인증 .jpg

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